IGBT(絕緣柵雙極型晶體管），是由 BJT(雙極結(jié)型晶體三極管) 和 MOS(絕緣柵型場效應管) 組成的復合全控型-電壓驅(qū)動式-功率半導體器件,其具有自關(guān)斷的特征。

       簡單講，是一個非通即斷的開關(guān)，IGBT沒有放大電壓的功能，導通時可以看做導線，斷開時當做開路。IGBT融合了BJT和MOSFET的兩種器件的優(yōu)點，如驅(qū)動功率小和飽和壓降低等。而平時我們在實際中使用的IGBT模塊是由IGBT與FWD（續(xù)流二極管芯片）通過特定的電路橋接封裝而成的模塊化半導體產(chǎn)品，具有節(jié)能、安裝維修方便、散熱穩(wěn)定等特點。

       IGBT其實本質(zhì)上還是一個場效應晶體管，從結(jié)構(gòu)上看和Power MOSFET非常接近，就在背面的漏電極增加了一個P+層，我們稱之為Injection Layer (名字的由來等下說).。在上面介紹的Power MOSFET其實根本上來講它還是傳統(tǒng)的MOSFET，它依然是單一載流子(多子)導電，所以我們還沒有發(fā)揮出它的極致性能。所以后來發(fā)展出一個新的結(jié) 構(gòu)，我們?nèi)绾文軌蛟赑ower MOSFET導通的時候除了MOSFET自己的電子我還能從漏端注入空穴不就可以了嗎？所以自然的就在漏端引入了一個P+的injection layer (這就是名字的由來)，而從結(jié)構(gòu)上漏端就多了一個P+/N-drift的PN結(jié)，不過他是正偏的，所以它不影響導通反而增加了空穴注入效應，所以它的特性就類似BJT了有兩種載流子參與導電。所以原來的source就變成了Emitter，而Drain就變成了Collector了。

       另外，這樣的結(jié)構(gòu)好處是提高了電流驅(qū)動能力，但壞處是當器件關(guān)斷時，溝道很快關(guān)斷沒有了多子電流，可是Collector (Drain)端這邊還繼續(xù)有少子空穴注入，所以整個器件的電流需要慢慢才能關(guān)閉(拖尾電流, tailing current)，影響了器件的關(guān)斷時間及工作頻率。這個可是開關(guān)器件的大忌啊，所以又引入了一個結(jié)構(gòu)在P+與N-drift之間加入N+buffer層，這一層的作用就是讓器件在關(guān)斷的時候，從Collector端注入的空穴迅速在N+ buffer層就被復合掉提高關(guān)斷頻率，我們稱這種結(jié)構(gòu)為PT-IGBT (Punch Through型)，而原來沒有帶N+buffer的則為NPT-IGBT。

        一般情況下，NPT-IGBT比PT-IGBT的Vce(sat)高，主要因為NPT是正溫度系數(shù)(P+襯底較薄空穴注入較少)，而PT是負溫度系數(shù)(由于P襯底較厚所以空穴注入較多而導致的三極管基區(qū)調(diào)制效應明顯)，而Vce(sat)決定了開關(guān)損耗(switch loss)，所以如果需要同樣的Vce(sat)，則NPT必須要增加drift厚度，所以Ron就增大了。

       凌訊微電子是一家專注功率半導體器件研發(fā)、封裝測試、銷售于一體的國家高新技術(shù)企業(yè)，致力于成為卓越的功率半導體器件制造商，助力功率半導體核心器件國產(chǎn)化，能夠為客戶提供高質(zhì)量，高可靠性的功率器件產(chǎn)品及全方位的技術(shù)支持，現(xiàn)有肖特基、LowVF肖特基、快恢復、高壓MOS、中低壓MOS、超結(jié)MOS、IGBT單管及SiC（碳化硅）二極管等主力產(chǎn)品線，產(chǎn)品廣泛應用于各類電源適匹器、LED照明、無刷馬達，鋰電管理，逆變等領(lǐng)域。